Edelstahl-Tauchmotorpumpen für chemisch aggressive Medien CH 436-1,9/2 D Ex , 400 V

Tauchpumpe für chemisch aggressives Schmutzwasser

EINSATZBEREICHE:

Tauchpumpen der Baureihe CH432, CH436 fördern korrosive und abrasive Medien, chemisch aggressives Schmutzwasser sowie flüssige Chemikalien mit Feststoffen bis zu 10 mm Korngröße. Anwendungsbereiche sind die Entsorgung aggressiver Schmutzwässer in Industrie und Gewerbe sowie das Fördern flüssiger Chemikalien in industriellen Prozessen.

AUFSTELLUNG:

Stationär oder transportabel.

WERKSTOFFE:

Pumpengehäuse, Motorengehäuse & Laufrad (Edelstahl 1.4436), Motorwelle (Edelstahl 1.4462), Mechan. Verbindungsteile (Edelstahl 1.4571), O-Ringe ((FPM (Viton)), Gleitringdichtungen ((SiC/SiC, FPM (Viton)), Wellendichtring ((FPM (Viton)), Kabelschutzschlauch (Polyolefin).

FÖRDERMEDIUM:

Schmutzwasser mit mechanisch und chemisch aggressiven Anteilen. Flüssige Chemikalien. PH-Wert 3-14, bei aggressiven Chemikalien ggf. niedriger, siehe Beständigkeitslisten der verwendeten Werkstoffe. Max. Temperatur des Fördermediums: 40° C, kurzzeitig bis 60° C.

MOTOR:

Voll überflutbarer, druckwasserdichter Motor. Isolationsklasse H, Schutzart IP 68. Thermofühler zur Temperaturüberwachung in der Wicklung.

LAUFRADFORM:

OFFENES MEHRKANALRAD, für verschmutzte und schlammige Medien mit Feststoffen

LIEFERUMFANG:

• Pumpe mit 10 m Anschlusskabel, 5 m Kabel-Schutzschlauch, loses Kabelende
• Mögliches Schaltgerät als Zubehör optional: DT32

Inselpauschale: